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    高壓真空滅弧室的結構和原理介紹

    本文作者:大禹漢光 發(fā)布時(shí)間:2016-04-01

    高壓真空滅弧室的結構和原理介紹

      高壓真空滅弧室縱向磁場(chǎng)觸頭:它包括第一導電桿1、第一線(xiàn)圈2、第一支撐3、第一導電片4、第一觸頭片5和第二觸頭片6;第二導電片7、第二支撐8、第二線(xiàn)圈9和第二導電桿10第一線(xiàn)圈2和第二線(xiàn)圈9 相互呈180度放置。

      縱向磁場(chǎng)觸頭原理:觸頭背面設置一個(gè)特殊形狀的線(xiàn)圈,串聯(lián)在觸頭和導電桿之間,電流主要在線(xiàn)圈中的環(huán)中流過(guò)。電流流過(guò)時(shí)在兩個(gè)線(xiàn)圈的環(huán)中的流向相同,可在觸頭打開(kāi)的空間中產(chǎn)生強的縱向磁場(chǎng),此縱向磁場(chǎng)保證在大開(kāi)距下對真空電弧進(jìn)行好的控制。

      縱向磁場(chǎng)觸頭特點(diǎn):能大大降低電弧電壓,有效地限制等離子體,從而極大地提高集聚電流。存在縱向磁場(chǎng)時(shí),電極表面存在均勻的陰極斑點(diǎn),電弧能量均勻地輸入觸頭的整個(gè)面端,不會(huì )造成表面局部的嚴重融化。

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